Q300T D Plus大腔室雙靶離子濺射鍍膜儀

Q300T D Plus大腔室、多功能、高真空雙頭離子濺射鍍膜儀

Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序濺射，具有兩個獨立的濺射頭，可以順序濺射兩種金屬而其間無需破真空。用戶自定義抽真空程序、濺射時間、濺射循環次數、濺射電流等工作參數，全自動運行。通過兩靶間循環鍍膜程序，可實現兩種靶材無限層不同厚度的順序鍍膜。當不使用時，靶材會被擋板遮擋以防止污染。基材樣品可用不氧化金屬（貴金屬）如金（Au）鉑（Pt）鍍膜，也可用銥（Ir）鍍制具有精細成膜顆粒結構的膜層。由于具有高真空系統及擋板裝置，Q300T D Plus也能用易氧化材料如鉻（Cr）及鋁（Al）等鍍制精細膜層。Q300T D Plus標配鉻（Cr）靶和金（Au）靶。

有關采用三靶鍍制大面積相同材料的膜層，請參閱Q300T T Plus。其它大腔室鍍膜儀，請參閱K975X/K975S以及Q300T ES Plus。

儀器特點：

•   電容式觸摸屏，靈敏度高，更易觸控使用

•   用戶界面軟件全面更新，使用現代智能手機技術界面

•   全面的文字幫助頁面

•   USB接口可輕松進行軟件更新，也可將配方文件備份/復制到USB存貯器

•   log文件格式為.csv，內含日期、時間和工作參數，可導出至Excel或類似軟件中分析

•   允許多用戶輸入和儲存鍍膜方案，并可根據近期的使用情況來排列每個用戶的配方

•   雙核ARM處理器，可實現快速響應的顯示；帶觸摸屏按鈕的全圖形界面，包括近期使用的1000個鍍膜日志和維護到期時的提醒等功能

•   可拆卸式玻璃腔室，容易清潔底座和頂板，設有防爆罩。如有必要，用戶可以快速更換腔室，以避免敏感樣品的交叉污染。高腔室選項可避免樣品過熱，提高濺射的均勻性和承載較高尺寸的樣品

•   雙頭濺射-適用于順序濺射鍍膜；磁控冷濺射，脈沖清潔用于濺射Al（鋁）

•   可選的雙膜厚監控附件（FTM）

•   大而多色的LED指示燈，實現可視化狀態指示；程序完成后具有音頻聲音提示

推薦應用：

•   理想的多層濺射鍍膜應用

•   粘附研究

•   無需破真空即可實現兩種金屬的順序鍍膜。例如，先鍍一層薄的“晶種”鉻（Cr）層，然后鍍金（Au）

•   亦可選擇其中一個靶頭，實現單金屬應用

•   可濺射各種易氧化和非易氧化金屬，用于薄膜和電子顯微鏡應用

Q300T D Plus是英國Quorum出品的國際認可的Q系列鍍膜儀的一部分，全球數千家客戶使用此類鍍膜儀。Q系列旨在為SEM、TEM和薄膜應用提供高質量的鍍膜解決方案，Q系列功能多樣、價格合理且易于使用。這些產品專供科研用途。

Q Plus系列鍍膜儀也有較小腔室的版本，請參閱：Q150R Plus、Q150T Plus以及Q150V Plus；SC7620和Q150GB也是可選的型號。