
半導體制冷冷臺
SEM帕爾貼原位加熱冷卻臺
適用于所有掃描電鏡
標準冷臺(溫度范圍:-25°C to +50°C)
隨著越來越多地使用低真空或可變壓顯微鏡,許多顯微鏡學家現在意識到需要控制濕樣品中的水升華。通過冷卻濕樣品,水的升華可能會減慢,或者取決于完全停止的腔室壓力。水的飽和蒸氣壓隨溫度的升高而顯著降低。
在室溫下,水會很快升華,引起樣品結構的顯著變化。在300Pa時,樣品溫度需要低于-9.5°C,在85Pa時,樣品溫度需要低于-25°C才能停止升華。因此,通過將樣品冷卻至-25°C,樣品可在85Pa腔室內,且樣品升華有限。本程序的優點顯而易見,通過在低真空下冷卻樣品,可將升華引起的樣品結構變化減至最小,并且在較高真空下操作的能力可提供更好的信噪比和更清晰的圖像。使用環境掃描電鏡,可以在氣體環境中成像,溫度和真空度可以完美匹配,以在成像過程中保持試樣完全水合。
Deben冷臺也可用于掃描電鏡內的高真空加熱和冷卻的應用。
Deben冷臺適用于所有表面活性劑,保證溫度范圍為+50°C至-25°C(在300Pa室壓下),或在較高真空度下低于-30°C。
增強型冷臺(溫度范圍:-25°C to +160°C)
增強型冷臺具有與標準冷臺相同的功能,但溫度范圍從-25°C到+160°C。
Deben這款冷臺也可用于掃描電鏡內的高真空加熱和冷卻的應用。
Deben這款冷臺適用于所有表面活性劑,保證溫度范圍為+50°C至-25°C(在300Pa室壓下),或在較高真空度下低于-30°C。
超級冷臺(溫度范圍:-50°C to +50°C)
超級冷臺具有與標準冷臺相同的功能,但在高真空下,其溫度范圍從-50°C到+50°C。
此超級冷臺也可用于掃描電鏡內的高真空加熱和冷卻的應用。
此款增強型冷臺適用于所有掃描電鏡,保證溫度范圍為+50°C到-45°C(在300Pa腔室壓力下)或低于-50°C(在高真空下)。
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